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Verkaufsleiter: Gia
E-Mail: Gia@tmaxlaboratory.com
Wechat: Dingqiuna
Artikel-Nr.:
TMAX-RFPowerZahlung:
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Xiamen PortVorlaufzeit:
5 Days:
CE, IOS, ROHS, SGS, UL CertificateHF-Stromversorgung für PECVD
Die Das PECVD-System besteht aus einem Röhrenofen, einer Quarzvakuumkammer und einem Vakuum System, ein Gasversorgungssystem und ein Hochfrequenz-Stromversorgungssystem. Hauptsächlich Verwendet für: Wachstum von Metalldünnfilmen, Keramikdünnfilmen, Verbunddünnfilmen, Graphen usw. Es ist einfach, Funktionen hinzuzufügen und Funktionen wie zu erweitern Plasmareinigung und Ätzen. Das PECVD-System bietet die Vorteile eines hohen Films Abscheidungsrate, gute Gleichmäßigkeit, hohe Konsistenz und Stabilität.
Wichtigste technische Parameter der HF-Stromversorgung:
|
Leistungsbereich |
0–500 W |
|
Maximal reflektiert Leistung |
200 W |
|
Arbeitsfrequenz |
RF: 13,56 MHz ± 0,005 % |
|
Leistungsstabilität |
+/-0,1 % |
|
Harmonische Komponente |
â¤-50dbc |
|
Rf-Bereichsbreite |
0-600mmeinstellbar |
|
Übereinstimmender Weg |
automatisch |
|
Kühlmodus |
Kältepunkte |
|
Lärm |
<50dB |
|
Radio Frequenzschnittstelle |
50Ω N-Typ |
|
Eingangsleistung |
208-240 V 50/60 HZ |
1 Standard-Exportpaket: Interner Antikollisionsschutz, externe Export-Holzkistenverpackung.
2 Versand per Express, auf dem Luftweg, auf dem Seeweg entsprechend den Anforderungen der Kunden, um den am besten geeigneten Weg zu finden.
3 Wir sind für den Schaden während des Versandvorgangs verantwortlich und tauschen den beschädigten Teil kostenlos für Sie aus.
Vorherige :
1600C CVD-Ofen mit Gasversorgungssystem und VakuumsystemNächste :
VS-0.1 Vakuumsystem mit VRD16 Vakuumpumpe für CVD-SystemKategorien
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