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Sputterbeschichtungsmaschine

Niedriges Vakuum

Magnetronsputtern

900M (Einzelziel)

Plasma-Sputtern

900 und 800 (Einzelziel); SD-2000III (Drei Ziele)

Thermische Verdampfung

800C und 980 (Carbonseil, kein Zielkopf)

Magnetronsputtern + thermische Verdampfung

900C (Einzelziel), der andere Fall ist ein Carbonseil

Hochvakuum

Magnetronsputtern

SD-650MH (DC+ DC, DC + RF, RF+ RF)

Thermische Verdampfung

SD-100AF (Heißverdampfungskohlenstoffstab, Molybdänschiffchen, Wolframdrahtstab)

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    Insgesamt

    1

    Seiten

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