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Sputterbeschichtungsmaschine |
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Niedriges Vakuum |
Magnetronsputtern |
900M (Einzelziel) |
Plasma-Sputtern |
900 und 800 (Einzelziel); SD-2000III (Drei Ziele) |
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Thermische Verdampfung |
800C und 980 (Carbonseil, kein Zielkopf) |
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Magnetronsputtern + thermische Verdampfung |
900C (Einzelziel), der andere Fall ist ein Carbonseil |
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Hochvakuum |
Magnetronsputtern |
SD-650MH (DC+ DC, DC + RF, RF+ RF) |
Thermische Verdampfung |
SD-100AF (Heißverdampfungskohlenstoffstab, Molybdänschiffchen, Wolframdrahtstab) |
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