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Hochvakuum-Magnetron-Ionen-DC- oder RF-Sputterbeschichtungsgerät für die REM-Probenvorbereitung

Hochvakuum-Magnetron-Ionen-DC- oder RF-Sputterbeschichtungsgerät für die REM-Probenvorbereitung

Verkaufsleiter: Gia

E-Mail: Gia@tmaxlaboratory.com

Wechat: Dingqiuna


  • Artikel-Nr.:

    TMAX-650MH
  • Zahlung:

    L/C, T/T, Western Union, Credit Cards, Paypal
  • Verschiffungshafen:

    Xiamen Port
  • Vorlaufzeit:

    5 Days
  • :

    CE, IOS, ROHS, SGS, UL Certificate
Produktdetails

Hochvakuum-Magnetron-Ionen-DC- oder RF-Sputterbeschichtungsbeschichter für die REM-Probenvorbereitung



Einführung

Hoch-Vakuum-Magnetron-Ionen-Sputter-Beschichter ist ideal und für die Materialwissenschaft und Probenvorbereitung konzipiert. Es wird von den meisten Universitäten und wissenschaftlichen Forschungsinstituten der Materialwissenschaft und -technik häufig zum Beschichten von Metallen, Keramiken, Halbleitern, Isolatoren oder anderen Arten der Membranmaterialvorbereitung verwendet.

Der Hochvakuum-Magnetron-Ionen-Sputter-Beschichter bietet die stabilste Sputter-Umgebung und erreicht die grundlegenden experimentellen Bedingungen des Magnetron-Sputterns in sehr kurzer Zeit. Es bietet DC/RF zwei Arten von Sputterleistungsoptionen, die das Sputtern leitender oder nicht leitender Substanzen auf die Probe ermöglichen und die Leistung der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) verbessern. Es eignet sich auch hervorragend für die Oberflächenbehandlung und -beschichtung. Es ist einfach zu bedienen und benutzerfreundlich.

Vakuumpumpe und Kühler sind im Lieferumfang enthalten.


Parameter

Vakuum pump set

(Oil erforderlich) rotary vacuum pump+(oil free) turbo moleculan pump set

Rotary pPumpen sGeschwindigkeit

50 Hz: 16 /h (4,4 L/s)/ 60 Hz: 19,2/h (5,2 L/s)

Molekular pPumpen sGeschwindigkeit

300 L/s

Vakuum limit

5x10-5Pa

Arbeit pDruck

0,5–5 Pa

Saugen time

10 Min(10-3Pa)

Vakuum mSicherheit

Messbereich von Atmosphäre bis 1*10-6Pa

Gas cSteuerung

Gas fniedrig cRegler

Kammer sGröße

Ï260*200mm (Höhe) mEtal

Magnetron target source

Zielgröße Ï 50*3mm(Cu)/tZielquelle: weak mmagnetisch sSubstanz /mMaterialien

Operation mMethode

Bedienungsanleitungl

Gewicht/GrößeGröße

100 kg/610 mm Länge x 420 mm Breite x 490 mm Höhe

Strom sVersorgung

AC 110V 60Hz oder AC 220V 50Hz

Strom cVerbrauch

<3000W

Kühlung mMethode

Luft Kühlung(pUmluft)+ WasserWasser KühlungKühlung(sPuttern tZiel)

Garantie

Ein Jahr eingeschränkte Garantie mit lebenslangem Produktsupportt


Magnetron Sputter Coater
Magnetron Sputter Coater
Magnetron Sputter Coater
Magnetron Sputter Coater
Magnetron Sputter Coater

Tmax CE

TMAX Partner

CVD furnace


tube furnace


muffle furnace



1 Standard-Exportpaket: Interner Antikollisionsschutz, externe Export-Holzkistenverpackung.

2 Versand per Express, auf dem Luftweg, auf dem Seeweg entsprechend den Anforderungen der Kunden, um den am besten geeigneten Weg zu finden.

3 Wir sind für den Schaden während des Versandvorgangs verantwortlich und tauschen den beschädigten Teil kostenlos für Sie aus.



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